UNIPOL-1000D 双盘压力研磨抛光机技术参数
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UNIPOL-1000D 双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域。适用于金属、晶体、陶瓷、玻璃、岩样、矿样等材料样品的研磨抛光，也可用于工厂的小规模生产。该机具有加工精度高，性能稳定可靠，操作简单，适用范围广的特点。
1.磨抛盘(下盘)直径：φ250mm（双盘）
2.磨抛盘（下盘）转速50-400rpm（增量调速，最小增量10）
3.载样盘（上盘）直径：φ150mm 桃形孔直径：φ25.4mm
4.磨抛头主轴转速10-80rpm（无级调速）
5.加载范围0.5-20Kg(最小增量0.5Kg)
标准配件：
1 | 铝盘 | 1个 |
2 | 抛光垫（磨砂革、合成革） | 1个 |
3 | 载样盘 | 2个 |
4 | 研抛底片 | 4个 |
5 | 磁力片 | 2个 |
6 | 砂纸 | 8片 |
7 | 研磨膏 | 1支 |
